国产 DUV 光刻机已启动量产，长鑫存储或成首批客户

深潮 TechFlow 消息，7 月 27 日，据 The Information 援引知情人士消息，上海一家国资背景企业已开始量产自主研发的深紫外光刻机设备，并计划于 2026 年生产约 5 台、2027 年扩大至约 20 台。消息称，该批设备拟交付中芯国际、华虹半导体及长鑫存储等国内芯片制造商，其中长鑫存储或成为首批客户之一。 此举被视为中国半导体制造设备国产化替代取得阶段性进展，但整体产能与阿斯麦仍存在明显差距。