ASML计划2027年低数值孔径EUV产能提升30%

BiRun 消息，ASML宣布计划于2027年前将低数值孔径EUV光刻机产能提升30%。此次扩产有望缓解全球芯片供应紧张，进而为人工智能算力增长提供关键支撑。不过，该产能扩张计划的最终成效，仍将高度依赖下游需求的持续性及全球地缘政治局势的稳定。