黄仁勋：中国2030搞定国产先进光刻

BiRun 讯，黄仁勋在 All-In 峰会上判断，黄仁勋在 All-In 峰会上判断，中国到 2030 年就能做出自己的先进光刻系统。他还认为，一旦技术成熟，中国有很强的大规模生产能力，国产设备进入本土晶圆厂只是时间问题。

这个判断明显比蔡司更乐观。蔡司半导体负责人 Frank Rohmund 最近称，中国要做出国产 EUV 光刻机，可能还需要约 15 年。蔡司是 ASML EUV 光学系统的核心供应商。

不过主持人问的是「advanced lithography systems」，没有具体限定为 EUV，黄仁勋在回答中也没有进一步说是 EUV。

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