三星半导体核心刻蚀工艺配方被曝多次流向泛林集团韩国分公司

韩国半导体媒体《THE ELEC》11月9日独家报道称，三星电子部分半导体刻蚀工艺配方未经授权，被多次传至美国半导体设备商泛林集团（Lam Research）的韩国分公司。泛林集团为三星提供刻蚀、沉积设备，双方原本约定，泛林可为设备性能优化和维护获取部分生产线运行数据。但三星调查发现，泛林韩国团队通过不当请求，获取了三星明确禁止对外传输的独立工艺配方文件，相关情况在2026年下半年被三星发现，且涉嫌多次发生。工艺配方包含设备运行所需的温度、压力、气体流量及处理时间等关键参数，是芯片制造商长期积累的核心生产诀窍，直接影响工艺稳定性和良率。报道还提到，泛林韩国分公司11月6日更换代表董事，但尚无证据证明人事调整与此次事件直接相关。三星和泛林韩国均未回应媒体问询。