消息稱 SK 海力士推進 EUV 工藝，開始引入新材料 PSM

深潮 TechFlow 消息，8 月 11 日，據財聯社報道，SK 海力士正致力於推進其極紫外光刻（EUV）技術，以實現下一代 DRAM 的量產。公司於去年首次推出高數值孔徑（High-NA）EUV 設備，並於今年全面啓動相關技術的研發。據悉，該公司已全面開始引入相移掩模（PSM）等新型材料，以提昇 EUV 光刻性能。