清溢光電:55nm PSM產品已進入客戶上綫認証階段
清溢光電公告,公司55nm PSM(相移掩膜版)產品已與客戶簽署保密協議並確認產品規格書,已收到客戶採購訂單(PO),產品現已交貨,進入客戶上綫認証階段。PSM相移掩膜版主要用於半導體芯片製造中對圖形精度要求較高的關鍵光刻層,覆蓋邏輯、存儲、部分特色工藝及功率器件等高精密圖形場景。若順利完成客戶認証並實現規模化批量供貨,將完善公司高端半導體掩膜產品榘陣,提昇盈利能力。但認証週期及結果存在不確定性,批量供貨時間尚不能確定。
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